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硅可用于制作半导体器件和集成电路。高温下氢气与四氯化硅（SiCl4）反应可制得硅，化学方程式为：

2H2 + SiCl4 ==== Si + 4HCl，该反应属于

A、化合反应
B、分解反应
C、置换反应
D、复分解反应
考点：
答案：
C
解答：
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